地 址:北京朝阳区东四环中路41号嘉泰国际A座1503
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邮 箱:asiaspace@163.com
先进功率半导体晶圆加工技术展
展会时间:2027年03月10-12日
展出地点:日本千叶县千叶市
展馆名称:慕张国际展览中心
展览周期:两年一届
主办方:日本工业新闻出版社
中国总代理:日本亚洲空间有限会社
展会介绍:
※SiC=碳化硅、GaN=氮化镓
本展会是日本国内规模最大的专业展会,汇聚了下一代功率半导体(碳化硅 SiC、氮化镓 GaN、金刚石等)晶圆加工相关的最尖端技术与解决方案,涵盖切片、研磨、抛光、CMP(化学机械抛光)、清洗、检测 / 评估、设备 / 材料等晶圆制造全工序的最新技术与产品。
虽为新展会,但仍获得了众多参展商与观众的支持,在热烈的氛围中圆满落幕。
本次参展对象在 SiC、GaN 的基础上,进一步拓展至金刚石、氧化镓(Ga₂O₃)及其他最尖端 WBG(宽禁带)半导体材料,因此展会名称也由「SiC、GaN 加工技术展」更名为「先进功率半导体晶圆加工技术展」,全新启航。此外,除传统晶圆制造工序(切片、磨削、研磨等)外,本次展会还涵盖器件制造工序中的加工技术(划片、背磨、平坦化 CMP 等),旨在进一步扩大参展商与观众规模。
联系方式:
联系人:李思佳
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地 址:北京朝阳区东四环中路41号嘉泰国际A座1503
组展单位:北京亚优国际展览有限公司
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